小型真空甩帶機 非晶微晶薄帶制備裝置

小型真空甩帶機 非晶微晶薄帶制備裝置的設(shè)備原理

SDM-0.02在高真空條件下將熔融態(tài)金屬或合金噴射到高速旋轉(zhuǎn)的銅輥上，令其快速冷卻以得到薄帶。由于這一冷卻速度非常快，可以達到104K/秒-106K/秒數(shù)量級，從而能夠在凝固時繼續(xù)保持其液態(tài)的無序結(jié)構(gòu)，抑制晶化，得到非晶態(tài)壓穩(wěn)材料。而通常熔化的金屬或合金冷卻到玻璃轉(zhuǎn)變溫度以下時，會發(fā)生形核和晶化，無法得到壓穩(wěn)材料。

小型真空甩帶機 非晶微晶薄帶制備裝置技術(shù)參數(shù)

1、樣品熔煉量: 20g;

2、輥輪尺寸: φ 200mmx40;

3、銅棍速度: 0-3000r/min;

4、真空度:優(yōu)于6. 67x10-3Pa;

5、熔煉電源功率: 15KW;

6、熔煉坩堝: 石英;

7、條帶寬度: 1-10mm;

8、真空腔尺寸: 300X 300X 480mm (L*W*H)

9、設(shè)備尺寸: 620*560*780m (L*W*H)

10、標(biāo)配:主機及感應(yīng)熔煉電源

設(shè)備工程條件

1、設(shè)備總功率: 18Kw

2、總進線要求:三相，380V, 50Hz

3、設(shè)備總重量:^ 220Kg

4、設(shè)備占地面積: 1000*600*700mm (長*寬*高）

典型應(yīng)用

熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進行新材料的科研